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《International Journal Of Optomechatronics》雜志影響錄用的因素有哪些?

來(lái)源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:59:10 461人看過(guò)

《International Journal Of Optomechatronics》雜志是一本專注于工程技術(shù)領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊,該雜志的錄用率受多種因素影響,想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

《International Journal Of Optomechatronics》雜志的錄用率受多種因素影響,具體如下:

年發(fā)文量:《International Journal Of Optomechatronics》雜志年發(fā)文量為:12篇。年發(fā)文量較大的期刊,相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。

質(zhì)量與創(chuàng)新性:論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。

期刊分區(qū):《International Journal Of Optomechatronics》雜志在中科院的分區(qū)為3區(qū),而在JCR的分區(qū)為Q1。

論文質(zhì)量:包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。

影響力與排名:《International Journal Of Optomechatronics》雜志IF影響因子為:6.7。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高,錄用率相對(duì)較低。

審稿流程:嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件,導(dǎo)致錄用率下降。

投稿數(shù)量:在特定時(shí)期內(nèi),若大量研究者集中向某期刊投稿,會(huì)導(dǎo)致稿件堆積,錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響,作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊,并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì),投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南,并與雜志社保持良好溝通。

《International Journal Of Optomechatronics》雜志簡(jiǎn)介

中文簡(jiǎn)稱:國(guó)際光機(jī)電一體化雜志
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:INT J OPTOMECHATRONI
出版商:Taylor and Francis Ltd.
出版周期:Quarterly
出版年份:2007年
出版地區(qū):UNITED STATES
ISSN:1559-9612
ESSN:1559-9620
研究方向:工程技術(shù) - 工程:電子與電氣

《國(guó)際光機(jī)電一體化雜志》發(fā)表了光學(xué)、力學(xué)、流體學(xué)和電子學(xué)交叉領(lǐng)域的多學(xué)科研究的最新成果。

您可以提交的主題包括但不限于:

-自適應(yīng)光學(xué)-

光力學(xué)-

機(jī)器視覺(jué)、跟蹤和控制-

基于圖像的微/納米操縱-

光機(jī)電一體化控制工程-

光學(xué)計(jì)量學(xué)-

光學(xué)傳感器和基于光的執(zhí)行器-

用于天文學(xué)和空間應(yīng)用的光機(jī)電一體化-

基于光學(xué)的檢查和故障診斷-

微/納米光機(jī)電系統(tǒng)(MOEMS)-

光流體學(xué)-

光學(xué)組裝和封裝-

基于光學(xué)和視覺(jué)的制造、工藝、監(jiān)控和控制-

生物和醫(yī)學(xué)技術(shù)中的光機(jī)電一體化系統(tǒng)(例如光學(xué)相干斷層掃描 (OCT) 系統(tǒng)或內(nèi)窺鏡和基于光學(xué)的醫(yī)療器械)

在中科院分區(qū)表中,大類學(xué)科為工程技術(shù)3區(qū), 小類學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程:電子與電氣3區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程:機(jī)械 OPTICS 光學(xué) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個(gè)類別分為四個(gè)區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程:機(jī)械 OPTICS 光學(xué) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程:機(jī)械 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程:機(jī)械 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程:機(jī)械 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 ENGINEERING, MECHANICAL 工程:機(jī)械 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

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